【儀器網(wǎng) 行業(yè)應用】沃特世采用Arc HPLC?效液相?譜系統(tǒng)連接光電?極管陣列(PDA)和單四極桿質(zhì)譜檢測器（ACQUITY QDa），僅需15分鐘即可分析CMP研磨液中的單個添加劑或添加劑混合物。

　　只需很少的樣品制備步驟：添加劑的稀釋和進樣，CMP研磨液的離?、稀釋和進樣；

　　PDA能夠輕松檢測到低濃度下對紫外線(UV)活性的添加劑，并進?定量分析；

　　質(zhì)譜檢測器ACQUITY QDa可以針對更復雜的添加劑進?定性分析。

　　實 驗

　　樣品描述

　　市售樣品和標準品（購?德國默克）的詳細信息如表1所示。

　　除CMP研磨液外，所有采購的化學品均溶于10 mM甲酸銨中，濃度為1 mg/mL。將CMP研磨液在4 oC溫度下以2,200 rpm離?20分鐘，并將最上?的4 mL上清液傾倒?20 mL閃爍瓶中，?10 mM甲酸銨將稀釋?濃度為6.5 mg/mL。

　　在表2列出的不同濃度下，對各單標進?連續(xù)稀釋分別得出校準曲線，然后將其?對?地組合成CMP添加劑混合物（混合物A），并對混合物A進?連續(xù)稀釋，得出校準曲線。最后，使?Ludox?上清液稀釋混合物A，制成混合物B稀釋系列，?于計算加標到Ludox上清液基質(zhì)中的添加劑的回收率。實驗方法和具體參數(shù)請至文末查看原文獲取。

　　………………　………………　………………　………………　………………　………………

　　更多詳細內(nèi)容，請點擊底部“免費下載全文”查看。